한성산업㈜ Hansung Industry

1996.06	한성산업㈜ 창립 -대지: 6,000 ㎡. 건평: 1,870 ㎡ -Clean Room : 1,000Class 150㎡
1996.12	ULVAC. EWJ-060 : ITO Sputter Machine 도입
1997.06	장비도입 완료 ITO film 개발 시작
1998.01	국내 최초 ITO FILM 개발 성공_ 양산 : 5,000㎡/월
1999.12	CAPA 확대 : 10,000㎡/월
2000.12	국내최초 ITO Sputtering 용 Vacuum Web Coater 개발 착수
2001.05	수출유망중소기업 지정 - 대구경북중소기업청
2001.10	국내최초 ITO Sputtering 용 Vacuum Web Coater 개발 성공 -대면적 Plasma 처리 기술 개발 -대면적 Sputter 기술 -연속 공정에 의한 Flexible Substrate 증착기술 -Capa : 24,000㎡/월
2002.01	Metal 및 기타 재료의 진공코팅 사업 시작
2004.09	2004 지역산업진흥사업 지역특화기술개발사업 참여 (2004.09~2005.08) "Super Fine Pitch Pattern용 Cu Sputtered PI FPC 개발"
2005.06	특허출원 (10-2005-0057775) “스퍼터링 공정을 이용한 전자파 차폐재 제조 방법 및 전자파 차폐재”
2008.01	Sputtering용 Vacuum Web Coater 개발 착수 (Capa 확대) -대면적 전처리용 ION GUN 장착
2009.05	Sputtering용 Vacuum Web Coater 개발 성공 (Multi layer 신 Sputter 기술 개발/도입) -Capa : 30,000㎡/ (Total : 54,000㎡/월)
2011.01	각종 신 Sputter 기술 개발, 도입 중